三氧化鉍(Bi?O?)的熔煉過程需要嚴格控制溫度和環(huán)境條件。這種化合物在低溫時就顯示出明顯的熔融特性，其熔點僅為817℃，遠低于大多數(shù)金屬氧化物。實際操作中通常采用電阻爐或感應爐加熱，需要重點關注爐膛材料的耐腐蝕性，特別是避免使用含硅材料，因為高溫下三氧化鉍會與二氧化硅發(fā)生反應。

在加熱前必須確保原料純度達到99.9%以上，雜質含量過高會影響最終產品的光學和電學性能。升溫速率建議控制在5-10℃/分鐘，當溫度接近700℃時需要密切觀察物料狀態(tài)變化。熔融狀態(tài)下三氧化鉍呈現(xiàn)亮黃色液體，此時可維持15-30分鐘以保證完全均質化，但不宜超過1小時，否則會加劇鉍元素的揮發(fā)損失(約0.5%/小時)。

熔煉過程必須在氧化氣氛中進行，通常通入微量氧氣(流量0.5-1L/min)以防止部分還原生成金屬鉍。值得注意的工藝細節(jié)包括使用氧化鋁坩堝(耐溫1300℃以上)，以及在坩堝底部鋪設約5mm厚的氧化鋯粉作為隔離層。完成熔煉后，可采用梯度降溫法(2℃/分鐘)至500℃以下再進行快速冷卻，這樣能獲得更均勻的顯微結構。

工業(yè)級熔煉還需要考慮廢氣處理系統(tǒng)，因為高溫會產生少量氧化鉍蒸氣，需要通過袋式除塵器(過濾精度0.3μm)配合堿液噴淋塔進行收集。對于特殊應用場景如光學玻璃制備，可能還需要在熔體中添加穩(wěn)定劑如氧化鑭(添加量0.1-0.3wt%)來改善熔體性能。整個過程最關鍵的是保持溫度穩(wěn)定性(波動±2℃以內)，這直接影響最終產品的結晶形態(tài)和物理性質。